<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Curatura on UV Curing Emitter</title>
		<link>http://uv-curing-emitter.com/it/tags/curatura/</link>
		<description>Recent content in Curatura on UV Curing Emitter</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 06:52:27 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-emitter.com/it/tags/curatura/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampada automatica per polimerizzazione UV</title>
				<link>http://uv-curing-emitter.com/it/posts/automatic-uv-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 06:52:27 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-emitter.com/it/posts/automatic-uv-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-emitter.com/images/b2e443d44e8aa49e3e4d2f698d9d50a7.jpg&#34; alt=&#34;Lampada automatica per polimerizzazione UV&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;L’asciugatura non uniforme sulla pressa non è solo un problema di qualità, ma un fattore che riduce il rendimento. Quando la polimerizzazione UV non è costante, il campo termico sulla piattaforma crea punti freddi. Questi punti freddi lasciano l’inchiostro non polimerizzato, causando quindi problemi di adesione e abrasioni nelle fasi successive. La soluzione non è più calore, ma energia UV precisa e ripetibile.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;cosa-conta-tecnicamente&#34;&gt;Cosa conta, tecnicamente&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;Abbiamo progettato la lampada automatica per polimerizzazione UV attorno a una lampada a vapori di mercurio ad alta pressione. Fornisce un’emissione spettrale stabile centrata a 365 nm, tarata sull’assorbimento del fotoiniziatore presente in inchiostri offset, flexo e serigrafici. L’irradianza di picco sul substrato arriva a 1200 mW/cm², permettendo una polimerizzazione istantanea in superficie e una penetrazione profonda anche in film di inchiostro più spessi.&lt;br&gt;&#xA;Il riflettore con rivestimento dicroico concentra l’emissione e riduce gli IR, mantenendo il substrato più freddo mentre il reticolamento si completa. Calibriamo l’emissione per fornire 800 mJ/cm² su tutta la &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;larghezza&lt;/a&gt;, misurata direttamente al punto di nip. È così che si ottiene una densità energetica uniforme da bordo a bordo.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Lampada a raggi UV per la pietra di marmo</title>
				<link>http://uv-curing-emitter.com/it/posts/uv-curing-lamp-for-marble-stone/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 06:38:00 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-emitter.com/it/posts/uv-curing-lamp-for-marble-stone/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-emitter.com/images/202304ad6af0f8b478173f2775b1fe8a.png&#34; alt=&#34;Lampada a raggi UV per la pietra di marmo&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Quando le piastrelle di marmo escono dalla linea ancora appiccicose, la reazione istintiva è di solito incolpare l&amp;rsquo;inchiostro. Tuttavia, più spesso di quanto si pensi, il vero colpevole è la lampada UV che inizia a deteriorarsi.&#xA;Una lampada di polimerizzazione UV a vapore di mercurio che un tempo manteneva un&amp;rsquo;irradiazione di picco costante a 365nm inizia a scendere. La densità energetica sulla superficie del substrato scende al di sotto di quanto necessario al fotoiniziatore per una reticolazione completa. Il risultato è un&amp;rsquo;appiccicosità superficiale, accumulo di polvere e scarti.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
